Chèchè nan Enstiti Teknoloji Elektwonik Moskou a, yon inivèsite rechèch leta Ris, te devlope yon nouvo teknoloji pou kreye konpozan pou aparèy ekspozisyon enfòmasyon lè l sèvi avèk pulsasyon lazè olye pou yo litografi. Sa a pral akselere rediksyon nan pri pwodiksyon pou pwochen jenerasyon ekspozisyon ak ultra-sifas pou divès sistèm optik. Yo pibliye rezilta yo nan nouvo nimewo Applied Surface Science.
Hypersurfaces yo se estrikti ki gen modèl peryodik ki ka itilize pou kontwole onn elektwomayetik ak limyè. Sou baz sa a, materyèl dyelèktrik ak metalik osi byen ke materyèl chanjman faz ka itilize. Ak materyèl chanjman faz ka chanje eta faz la e konsa pwopriyete yo ki depann sou radyasyon ekstèn lan.
Sou baz hypersurfaces ki fèt ak materyèl chanjman faz GST (konpoze nan sistèm germanium-antimwàn-teluriyom), chèchè yo te devlope nouvo aparèy kontra enfòmèl ant ki ka montre enfòmasyon avèk èd vag limyè. Men sa yo enkli ekspozisyon ultra-mens, kask reyalite ogmante ak vityèl, ak pwojektè olografik. Sepandan, pwosesis la nan nanostructuring mens-fim sifas yo transfòme yo nan sifas miltifonksyon byen lwen tèlman te pote soti lè l sèvi avèk travay-entansif ak koute chè fotolitografi. Se imaj super-sifas ki nesesè yo premye kreye sou yon modèl (mask) ak Lè sa a, transfere nan objè a nan yon rezolisyon chwazi.
Yo nan lòd yo diminye pri a nan fòmasyon estrikti mens fim ak pi vit pwosesis la, Moskou Enstiti Elektwonik ak Teknoloji, ansanm ak lòt enstitisyon syantifik, itilize pulsasyon lazè olye pou yo fotolitografi. Dapre chèchè yo, avèk èd nan iradyasyon lazè nan pulsasyon ultrashort, yo ka kreye nanoestrikti òdone sou GST pi vit ak pi fasil. Pou fòme yon sifas òdone, yo itilize yon pwosesis pre-aplike, nan ki materyèl anvan an detwi nan prezans lazè a. Avantaj prensipal la nan solisyon an se ke batman kè a deklannche pwòp tèt ou-òganizasyon nan estrikti sou sifas la. Tou depan de entansite a ak kantite pulsasyon, 3 diferan kalite estrikti yo ka fòme, ki pi entrigan nan yo ki detanzantan ranje nanosfè nan menm gwosè a. Fòm sa yo difisil pou fòme epi yo gen yon reyon ki rive jiska 150 nanomèt.
Précédemment, li te enposib jwenn yo nan materyèl sa yo san yo pa itilize teknik adisyonèl, men kounye a, pa gen okenn ekipman ki nesesè yo jwenn nanosfè nan menm style la, eksepte pou aparèy la lazè ak fim nan tèt li. Esfè sa yo pwodui kòm yon rezilta nan pouri anba tè a nan filaman fonn. Nan ka sa a, ogmantasyon nan enèji nan iradyasyon lazè lakòz yon pwosesis transfè mas, ki mennen nan transfòmasyon nan chenn nanosfè yo nan sekou peryodik. Teknik ki pi wo a fè li posib yo kreye nanolens trè òdone ak nanogratings optik, ki espere yo dwe plis entegre ak divès kalite sistèm optik, ki gen ladan sistèm ekspozisyon enfòmasyon.
Aug 02, 2023
Kite yon mesaj
Lazè olye pou yo fotolitografi diminye depans pwodiksyon ultra-sifas
Voye rechèch





